路透报导，在深圳一间实验室里，中国科学家已打造出一个能够生产尖端晶片的机器原型。北京当局更已设定目标，要在2028年前使用这台原型机生产出可用晶片。
消息人士透露，这台原型机今年初便已完成，目前正在测试中，而这台设备由荷兰半导体巨头艾司摩尔（ASML）的一个前工程师团队打造，他们对该公司的极紫外光刻机（EUV）进行了逆向工程。
深圳的这台设备据传已经可以运行，并能成功产生极紫外光，但尚未生产出可用的晶片。当局目标在2028年前使用这台原型机生产出可用晶片。不过，知情人士表示，更实际的时间表是2030年，而这仍比分析师预估的时间提前数年。
ASML执行长Christophe Fouquet今年4月时曾表示，中国要开发这类技术还需要「很多很多年」。但这台原型机的存在，意味着中国实现半导体自主的时间可能比外界预期的提早数年。
尽管如此，中国仍面临重大的技术挑战，尤其是在复制由西方供应商生产的高精度光学系统方面。
两位知情人士称，二手市场上能找到来自ASML旧机型的零组件，对中国打造出一台国产原型机有莫大助益。
报导指出，此计划隶属国家半导体战略。根据官方媒体报导，这一战略由习近平的亲信、中共中央政治局常委兼中央科技委员会主任丁薛祥负责统筹。
知情人士并将这形容为中国版的「曼哈顿计划」，也就是美国二战时研发核武的行动。北京的目标自然是让中国最终能够使用完全本土制造的设备，生产先进晶片，将美国100%踢出供应链。
ASML在声明中回应：「可以理解其他企业希望复制我们的技术，但要办到这一点绝非易事。」从2018 年起，美国开始向荷兰施压，阻止ASML向中国出售EUV系统。到了2022年，拜登政府更扩大限制，实施广泛的出口管制，旨在切断中国获取先进半导体技术的管道。ASML对路透表示，迄今从未将任何EUV系统出售给中国客户。
今年9月时，英国金融时报也曾引述知情人士说法报导，中芯国际正在测试大陆首款国产先进晶片生产设备，目标是用于制造AI处理器。
当时消息人士称，中芯国际正在测试由上海新创公司宇量升生产的28奈米DUV曝光机，这款机器用的是浸没式技术，类似ASML采用的技术，将利用该款DUV曝光机用于「多重图案技术」（multi-patterning）生产7奈米晶片。不过，目前尚不清楚该曝光机是否何时能用于晶片的量产。 $(document).ready(function () {nstockStoryStockInfo();});